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File:Spinner.jpg

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原始文件 （641 × 823像素，文件大小：63 KB，MIME类型：image/jpeg）

描述
English: A spinner is used to apply a thin even coating of photoresist to a silicon wafer so that the pattern on a photomask can be transferred and a circuit can be fabricated. The image shows a wafer of 6" (125 mm) diameter that has been mounted on the vacuum chuck and is ready for spinning. The user dispenses a drop of photoresist in the center of the wafer and the centrifugal force spreads the fluid into an even film, eliminating excess photoresist at the edge of the wafer in the process.
Note that the light in the room really is yellow.
来源 Photo taken at HP Labs by Alison Chaiken.
作者 Alison Chaiken
授权
(二次使用本文件)
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创作作者 简体中文（已转写）

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网址：​https://commons.wikimedia.org/wiki/user:Chaiken
作者姓名字符串 简体中文（已转写）：​Alison Chaiken
维基媒体用户名 简体中文（已转写）：​Chaiken

版权状态 简体中文（已转写）

版权所有 简体中文（已转写）

曝光时间 简体中文（已转写）

0.03787878787878787878 秒

焦距比数 简体中文（已转写）

2.6

焦距 简体中文（已转写）

8.2 毫米

ISO速度 简体中文（已转写）

100

媒体类型 简体中文（已转写）

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日期/时间缩⁠略⁠图大小用户备注
当前2014年11月29日 (六) 16:192014年11月29日 (六) 16:19版本的缩略图641 × 823（63 KB）SelakantColour correction and contrast enhancement.
2006年2月3日 (五) 02:232006年2月3日 (五) 02:23版本的缩略图641 × 823（62 KB）ChaikenA '''spinner''' is used to apply a thin even coating of photoresist to a silicon wafer so that the pattern on a photomask can be transferred and a circuit can be fabricated. The i

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